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當前位置：上海添時科學儀器有限公司>>制膜設備>>磁控濺射鍍膜>> VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀
1、配置兩個靶槍，一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜，一個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。
2、可制備多種薄膜，應用廣泛。
3、體積小，操作簡便。
技術參數：
| 產品名稱 | VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀 | |
| 產品型號 | VTC-600-1HD | |
| 安裝條件 | 本設備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。 | |
| 1、水:設備配有自循環冷卻水機（加注純凈水或者去離子水） | ||
| 2、電：AC220V 50Hz,必須有良好接地 | ||
| 3、氣：設備腔室內需充注氬氣（純度99.99%以上）,需自備氬氣氣瓶（自帶Ø6mm雙卡套接頭）及減壓閥 | ||
| 4、工作臺：尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上 | ||
| 5、通風裝置：需要 | ||
| 主要參數 | 1、輸入電源：220V/50Hz | |
| 2、濺射靶數量：2 | ||
| 3、靶槍冷卻方式：水冷 | ||
| 4、極限真空度：7.4E-5pa | ||
| 5、真空室規格：Φ300×330 mm | ||
| 6、真空系統：VRD-16機械泵 FF-100/150渦輪分子泵 | ||
| 7、恢復真空：系統從大氣抽至5.0E-3pa≤30 min（系統短時間暴露大氣） | ||
| 8、充氣系統：2路質量流量計（１路氬氣100scc、２路氬氣200scc）特殊氣體可定制 | ||
| 9、濺射靶規格：Φ2",厚度0.1-5mm（因靶材材質不同厚度有所不同） | ||
| 10、樣品臺：Φ140mm/可旋轉（1～20rpm）/可加熱（室溫～1000℃） | ||
| 產品規格 | 主機尺寸：寬900mm×深650mm×高1100mm | |
